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真空镀膜是在真空中把真空中的钛,金,金属(导电:铝,锡,镍,不导电:铟,铟镍合金)石墨,水晶之类的金属或非金属,气体等材料利用溅射,蒸发,等离子体等技术,在基材上开成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多的优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺,对操作者无伤害,镀层牢固,膜层致密性好,均匀抗腐蚀性强及耐磨性高!
真空镀膜技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发,电子枪蒸发,电阻丝蒸发等);溅射镀膜(包括直流磁控溅射,中频磁溅射,射频溅射等技术),这些方法统称为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),简称PVD 。
真空蒸镀法:是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发原材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。
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